第九六五章 最高水平
一旦bse制程工艺的半导体生产线出口中g，但没有禁止arf准分子激光器出口，800nm制程工艺专利技术也不在禁令之中。
美国人知道就是中g光刻机公司耗费巨资买到了arf准分子激光器和800nm制程工艺专利技术，也生产不出6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线。
光刻机被称为半导体产业皇冠上的明珠，占一条半导体生产线总投资的1/3，除了光源、镜头和工作台三大核心技术之外，还需要光速矫正器、能量控制器、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台和光束形状设置，复杂程度超过大型航空发动机。
就像一般飞机制造厂买到一台顶级航空发动机，也不能生产顶级飞机。
国内光刻机半导体设备产业停滞了近十年，相关配套产业掉队太远，不是短时间用钱能买来的！
bse制程工艺的制定规格、选择架构、逻辑设计、电路设计、布线、制造、测试、封装和总测试等九道工序，能生产一条具有自主知识产权的4英寸晶圆和1.5um制程工艺的半导体生产线。
bsec如今的最高水平，只能生产西方光刻机半导体设备公司十年前淘汰的半导体生产线！